cam a22 u 4500 128634138 CHVBK 20200921121614.0 880212s1982 gw | 00 |ger|d BMFT-FB-T-82-216 (OCoLC)74661303 (NEBIS)000266174 ETH-BIB ger ETH-BIB ETHICS-ISBD Lackerprobung, Maskenherstellung und Justierung für die Röntgenlithographie Peter Mengel, Peter Tischer; Durchf.: Siemens AG, München Eggenstein-Leopoldshafen 1982 51 S. [engl.Zusammenfass.]; 31 Fig.; 2 Tab. Forschungsbericht, Bundesministerium für Forschung und Technologie T 82-216 1982/216 (NEBIS)004295535 156016613 LITHOGRAPHIE + MIKROLITHOGRAPHIE + NANOLITHOGRAPHIE (MIKROELEKTRONIK) ger (ETHUDK)000049370 ethudk MASKEN/MIKROELEKTROTECHNIK ger (ETHUDK)000028268 ethudk RÖNTGENSTRAHLEN (OPTIK) ger (ETHUDK)000014791 ethudk u RÖNTGENSTRAHLEN (OPTIK) ger 535-34 nebis E1 u MASKEN/MIKROELEKTROTECHNIK ger 621.3.049.7,15 nebis E1 u LITHOGRAPHIE + MIKROLITHOGRAPHIE + NANOLITHOGRAPHIE (MIKROELEKTRONIK) ger 621.3.049.7,11 nebis E1 u X-RAYS (OPTICS) eng 535-34 nebis E1 u RAYONS X (OPTIQUE) fre 535-34 nebis E1 u MASKS/MICROELECTRONICS eng 621.3.049.7,15 nebis E1 u MASQUES/MICROÉLECTRONIQUE fre 621.3.049.7,15 nebis E1 u LITHOGRAPHY + MICROLITHOGRAPHY + NANOLITHOGRAPHY (MICROELECTRONICS) eng 621.3.049.7,11 nebis E1 u LITHOGRAPHIE + MICROLITHOGRAPHIE + NANOLITHOGRAPHIE (MICROÉLECTRONIQUE) fre 621.3.049.7,11 nebis E1 Mengel Peter Tischer Peter BK020000 XK020000 XK020000 NEBIS E01 E01 MG P 412453: 1982/216 NEBIS 490 -- Forschungsbericht, Bundesministerium für Forschung und Technologie T 82-216 1982/216 (NEBIS)004295535 156016613 NEBIS 700 1- Mengel Peter NEBIS 700 1- Tischer Peter