Doppelkristall-Röntgendiffraktometrie mit hoher Ortsauflösung an selektiv abgeschiedenen III-V-Halbleiterschichten für die Optoelektronik

Verfasser / Beitragende:
von Angelika Iberl
Ort, Verlag, Jahr:
Regensburg : 1998
Beschreibung:
100 S. : Ill., Tab.
Format:
Buch (Hochschulschrift)
ID: 143866680