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Untersuchungen zum Verhalten von C₆₀ als Resist in der Röntgenlithographie
Gespeichert in:
Verfasser / Beitragende:
Heike Krämer
Ort, Verlag, Jahr:
Bonn :
1998
Beschreibung:
III, 110 S. : Ill.
Format:
Buch (Hochschulschrift)
ID:
143906321
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Beschreibung
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Thema
Buckminsterfulleren
Photoresist
Röntgenlithografie
Hochschulschrift
Verfasser / Beitragende
Krämer, Heike
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