Untersuchungen zum Verhalten von C₆₀ als Resist in der Röntgenlithographie

Verfasser / Beitragende:
Heike Krämer
Ort, Verlag, Jahr:
Bonn : 1998
Beschreibung:
III, 110 S. : Ill.
Format:
Buch (Hochschulschrift)
ID: 143906321