PECVD mit alternativen Dotanden für die Herstellung von Silizium-Dünnschichtbauelementen
Gespeichert in:
Verfasser / Beitragende:
von René Tews
Ort, Verlag, Jahr:
Dresden :
1998
Beschreibung:
VIII, 173 S. : Ill. ; 21 cm
Format:
Buch (Hochschulschrift)