Emerging lithographic technologies IX
1-3 March 2005, San Jose, California, USA
Gespeichert in:
Verfasser / Beitragende:
R. Scott Mackay, chair/ed ; spons. and publ. by SPIE - The International Society for Optical Engineering ; cooperating org.: International SEMATECH
Ort, Verlag, Jahr:
Bellingham, Washington :
SPIE,
2005
Beschreibung:
2 parts
Format:
Buch (Kongress)