Thin ferroelectric films: Preparation and prospects of integration
Gespeichert in:
Verfasser / Beitragende:
[A. Sigov, E. Mishina, V. Mukhortov]
Ort, Verlag, Jahr:
2010
Enthalten in:
Physics of the Solid State, 52/4(2010-04-01), 762-770
Format:
Artikel (online)
Online Zugang: