Optical properties of the HfO2 − x N x and TiO2 − x N x films prepared by ion beam sputtering
Gespeichert in:
Verfasser / Beitragende:
[V. Atuchin, V. Kruchinin, A. Kalinkin, V. Aliev, S. Rykhlitskiĭ, V. Shvets, E. Spesivtsev]
Ort, Verlag, Jahr:
2009
Enthalten in:
Optics and Spectroscopy, 106/1(2009-01-01), 72-77
Format:
Artikel (online)
Online Zugang: