Surface roughness and magnetic properties of Co/SiO2/Si(100) polycrystalline films deposited via DC magnetron sputtering
Gespeichert in:
Verfasser / Beitragende:
[A. Dzhumaliev, Yu. Nikulin, Yu. Filimonov]
Ort, Verlag, Jahr:
2009
Enthalten in:
Journal of Communications Technology and Electronics, 54/3(2009-03-01), 331-335
Format:
Artikel (online)
Online Zugang: