Production of nanocrystalline silicon layers using the plasma enhanced chemical vapor deposition from the gas phase of silicon tetrafluoride
Gespeichert in:
Verfasser / Beitragende:
[P. Sennikov, S. Golubev, V. Shashkin, D. Pryakhin, M. Drozdov, B. Andreev, Yu. Drozdov, A. Kuznetsov, H. Pohl]
Ort, Verlag, Jahr:
2009
Enthalten in:
JETP Letters, 89/2(2009-03-01), 73-75
Format:
Artikel (online)
Online Zugang: