Kinetics of electroless copper deposition using cobalt(II)-ethylenediamine complex compounds as reducing agents

Verfasser / Beitragende:
[A. Vaškelis, E. Norkus, J. Jačiauskienė]
Ort, Verlag, Jahr:
2002
Enthalten in:
Journal of Applied Electrochemistry, 32/3(2002-03-01), 297-303
Format:
Artikel (online)
ID: 471041564