A New Application for Heteropolyanions: Etching of III-V Semiconductor Compounds

Verfasser / Beitragende:
[Anne Quennoy, Aude Rothschild, Isabelle Gérard, Arnaud Etcheberry, Catherine Debiemme-Chouvy]
Ort, Verlag, Jahr:
2002
Enthalten in:
Journal of Cluster Science, 13/3(2002-09-01), 313-331
Format:
Artikel (online)
ID: 471074500