The microstructure of Cu films deposited by the self-ion assisted technique
Gespeichert in:
Verfasser / Beitragende:
[D. Field, O. Kononenko, V. Matveev]
Ort, Verlag, Jahr:
2002
Enthalten in:
Journal of Electronic Materials, 31/1(2002-01-01), 40-44
Format:
Artikel (online)
Online Zugang: