Microwave annealing for ultra-shallow junction formation

Verfasser / Beitragende:
[P. Kohli, S. Ganguly, T. Kirichenko, H. Li, S. Banerjee, E. Graetz, M. Shevelev]
Ort, Verlag, Jahr:
2002
Enthalten in:
Journal of Electronic Materials, 31/3(2002-03-01), 214-219
Format:
Artikel (online)
ID: 471147877