Characterization and optimization of copper chemical mechanical planarization
Gespeichert in:
Verfasser / Beitragende:
[Thomas Laursen, Malcolm Grief]
Ort, Verlag, Jahr:
2002
Enthalten in:
Journal of Electronic Materials, 31/10(2002-10-01), 1059-1065
Format:
Artikel (online)
Online Zugang: