Interfacial reactions and electrical properties of Hf/p-Si0.85Ge0.15
Gespeichert in:
Verfasser / Beitragende:
[Ming-Shaw Chung, Ming-Jun Wang, Wen-Tai Lin, T. Chang, Y. Fang]
Ort, Verlag, Jahr:
2002
Enthalten in:
Journal of Electronic Materials, 31/5(2002-05-01), 500-505
Format:
Artikel (online)
Online Zugang: