Characterization of ultrathin gate dielectrics formed by in-situ steam generation with nitrogen postprocessing
Gespeichert in:
Verfasser / Beitragende:
[A. Karamcheti, V. Watt, H. Al-Shareef, T. Luo, M. Jackson, H. Huff, C. Steinbrüchel]
Ort, Verlag, Jahr:
2002
Enthalten in:
Journal of Electronic Materials, 31/2(2002-02-01), 124-128
Format:
Artikel (online)
Online Zugang: