Inductively coupled plasma etching of Pb(ZrxTi1-x)O3 thin films in Cl2/C2F6/Ar and HBr/Ar plasmas
Gespeichert in:
Verfasser / Beitragende:
[Chee Chung, Yo Byun, Hye Kim]
Ort, Verlag, Jahr:
2002
Enthalten in:
Korean Journal of Chemical Engineering, 19/3(2002-05-01), 524-528
Format:
Artikel (online)
Online Zugang: