Applications of atomic layer chemical vapor deposition for the processing of nanolaminate structures

Verfasser / Beitragende:
[Kijung Yong, Joonhee Jeong]
Ort, Verlag, Jahr:
2002
Enthalten in:
Korean Journal of Chemical Engineering, 19/3(2002-05-01), 451-462
Format:
Artikel (online)
ID: 47115265X