Plasma properties, deposition and etching
Gespeichert in:
Verfasser / Beitragende:
ed.: J.J. Pouch and S.A. Alterovitz
Ort, Verlag, Jahr:
Aedermannsdorf (Hardstr. 13), Brookfield, Vt. :
Trans Tech Publications,
1993
Beschreibung:
X, 740 S. : Ill. ; 25 cm
Format:
Buch (Kongress)